株式会社陶喜では、京都大学との共同研究開発により、大気圧下でミストCVD法(Mist CVD)を用いて酸化物の成膜の開発、製品化を進めています。

「ミストCVD法の概説」はこちらをご覧ください。

 

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ミストCVD法のパイオニア|株式会社陶喜
太陽電池装置材料の販売、セラミック製品の販売、 酸化物成膜装置(ミストCVD装置(Mist CVD))の販売, 製造、コンサルティング業務を行っております。

太陽電池関連
電池の測定、評価装置、シリコン電池(ウェハー、セル、モジュール)、色素増感電(材料)、薄膜系電池、TCO基板(FTO、ITO基板)

セラミックス・ナノ粉末関連
セラミックス成型品(AI203、Zr02、圧電材料、AINなど基板、回路基板)、ジルコニア(Zr02)シート(織り布)、無機ナノ粉末(Si02、AI203、Y203などのナノ粉末または分散液、ペースト)、シリカによる金属への被膜装置

酸化物製膜装置(ミストCVD法)
大気圧下生膜法ミストCVD法の開発試作:京都大学(知的クラスター事業)と共同研究、成膜装置、酸化物皮膜試作
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